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真空加壓大擺件鑄造機系列，此系列設備專為大擺件的鑄造而定制。不同規格大小的擺件或工藝品，設計不同的鑄造室，真空配合加壓的方式下，鑄造成品率極高。熔解室采用先真空后加壓保護氣體的方式進行熔解，大大降低了金屬熔化過程中的損耗。鑄造室采用抽真空并向下加壓的方式鑄造，使真空及壓力完美配合，既能完全注入，又不易爆粉，鑄造工件基本無缺陷。加熱系統采用獨特的攪拌式感應加熱，無需手動攪拌。能滿足多種金屬的鑄造。
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真空加壓大擺件鑄造機系列，此系列設備專為大擺件的鑄造而定制。不同規格大小的擺件或工藝品設計不同的鑄造室，真空配合加壓的方式下，鑄造成品率極高。熔解室采用先真空后加壓保護氣體的方式進行熔解，大大降低了金屬熔化過程中的損耗。鑄造室采用抽真空并向下加壓的方式鑄造，使真空及壓力完美配合，既能完全注入，又不易爆粉，鑄造工件基本無缺陷。加熱系統采用獨特的攪拌式感應加熱，無需手動攪拌。能滿足多種金屬的鑄造。
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此設備整機外觀線條流暢，采用了獨特攪拌式感應加熱，自主掌握攪拌時間，運用真空加壓重力澆鑄方式的鑄造原理進行工作;機器自身電氣系統保護功能完善，智能化程度高，機身自檢報警保護，精確的數碼控溫系統，控溫誤差在土2℃;采用真空及氣體保護熔解，確保金屬氣化降至最低點，加壓漏斗式落料，保證工作在最快最佳狀態下注入鑄型，還原性能好，鑄件成功率高、密度高、填充度強、表面光潔精紅、達到基本無縮孔鑄造;鑄造室采用氣壓自動升降功能，極便于放置與取出鑄型，簡單易懂的操作界面及流程能讓每一個操作員獨立完成鑄造工作。
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鉑/鈀真空加壓鑄造設備是一款專用于貴金屬首飾制造的先進設備，采用德國高周波加熱技術，結合頻率自動追蹤和多重保護功能，實現快速熔解，節能環保且效率高。設備配備密閉式真空/惰性氣體保護熔煉室，有效防止金屬氧化和雜質混入，同時支持熔化與抽真空同步進行，顯著提升生產效率。惰性氣體環境下熔煉，碳質坩堝損耗極低，電磁攪拌功能確保成色均勻無偏析。設備搭載Mistake Proofing（防呆）自動控制系統和PID精準溫控系統（精度±1℃），操作簡便，溫度控制精準。
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振動真空加壓鑄造設備是一種先進高效的鑄造解決方案。該設備具備振動功能，可顯著改善鑄件的成色均勻性，避免成分偏析，同時優化物料流動性，使晶粒尺寸減少多達50%。其優勢在于降低孔隙率，提高鑄件密度和穩定性，從而減少后處理工作量和損耗。振動功能還能降低熱裂風險，改善模具填充效果，使材料結構更加致密，提升抗拉強度和彈性達25%，顯著優化后續加工性能。
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高真空連續鑄造設備是專用于鍵合金、銀絲、銅絲等高純度金屬及合金線材鑄造的先進設備。它采用德國高周波加熱技術，頻率自動追蹤及多重保護，熔煉速度快，節能環保。設備配備密閉式惰性氣體保護熔煉室，有效防止金屬氧化和雜質混入，同時結合電磁攪拌和機械攪拌功能，確保成色均勻無偏析。采用Mistake Proofing（防呆）自動控制系統和PID溫度控制系統（精度±1℃），操作簡便，溫度控制精準。自主研發的TAKJ-HVCC1/HVCC30設備，結合三菱PLC程控系統、SMC氣動和松下伺服電機驅動等知名品牌元器件，確保設備運行穩定可靠。
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真空智能連續鑄造設備是一款專用于黃金、K金、銀等貴金屬板材、圓形管材和矩形棒材生產的先進設備。它采用惰性氣體保護熔煉技術，配備電磁感應式加熱，2-3分鐘即可完成一爐熔煉，加熱速度快且效率高。設備搭載智能控制系統，極簡界面易于操作，新手也能快速上手。配備PID精準溫控系統，溫度精度可達±1℃，低功率運行，抗干擾能力強。大部分配件采用國際知名品牌，確保設備質量可靠，是貴金屬連續鑄造的理想選擇。
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高真空合金熔煉爐是一種先進的熔煉設備，采用中頻感應技術，熔煉時間短，工作效率高。該設備配備高真空水冷鑄造室，能有效防止金屬材料的氧化及雜質混入，特別適合高純度金屬材料或易氧化元素的熔煉。具備高真空狀態下的機械攪拌功能，確保成色均勻無偏析。在高純惰性氣體保護下進行熔煉，石墨坩堝氧化損耗極少。設備還采用自動傾倒澆注，操作簡便，澆注過程中模具自動加熱，保證澆注質量。此外，自帶二次加料功能，能有效控制低溫金屬添加的時間。
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真空連續鑄造機是一種先進的貴金屬鑄造設備，具備以下特點：采用惰性氣體保護熔解，有效防止金屬氧化，結合動力牽引鑄造方式，顯著降低損耗。該設備能夠在短時間內鑄造高密度的黃金、K金、銀等貴金屬，支持板形、圓條、方條、圓管及異形等多種規格產品的生產。通過下引法鑄造，將型材內部沙孔降至最低，確保鑄造出的成品滿足深加工要求。此外，設備配備高效獨特的攪拌式感應加熱系統，增強功率，使熔解金屬成色均勻，提升鑄造容量和速度。
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1700℃三溫區高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅲ采用三個數字溫度控制器進行獨立控溫，可設置30段升降溫程序，中心加熱區采用800℃級硅鉬棒加熱，另外兩個溫區采用硅碳棒進行加熱，調整三個溫區的溫度，可形成一個溫度梯度，進行功能材料的制備。同時，本機也適用于CVD法制作薄膜外延生長。
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1400℃雙溫區真空氣氛管式爐GSL-1400X-II以硅碳棒為加熱元件，采用S型單鉑銠熱電偶測溫和518P溫控儀自動控溫。本機設有真空裝置，可在多種氣氛下工作，主要用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝，特別適合批量生產使用。
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年08月22日 ~ 24日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
2025年08月14日 ~ 16日 
