全部
▼
熱搜：
341
0
DE500DL納米膜層磁控濺射系統配備多個磁控濺射源，可沉積金屬、半導體、介質材料. 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜、反應濺射、可選濺射楔形膜等。是材料和薄膜沉積研發和中試的理想平臺。
414
0
DWS250E金剛石線鋸是一種立式單向運行的臺式線鋸。它可處理的工件切割截面為H250xT250mm。金剛石封閉線圈的周長為2米，適配的線圈外徑從0.35~0.60mm。線速可從4m/s~12m/s 連續可調。采用重力進給的方式，及保證了進給壓力的恒等，也減少了輔助裝備帶來的額外震動，噪音以及維護和更新的成本壓力及麻煩。該線鋸可對工件進行干切或濕切的處理。
423
0
ZXQ-1自動鑲嵌機是一款用于金相巖相試樣制備的設備，主要用于對微小、不易手拿或不規則的試樣進行鑲嵌處理，以便后續的磨拋操作和在金相顯微鏡下的觀察。該設備能夠自動加溫、加壓，壓制成形后自動停機卸壓，操作簡便，只需按下按鈕即可完成樣件的自動壓制和取出。它適用于熱固性材料（如電玉粉、膠木粉等），溫度已預先調整并實現自動化控制。ZXQ-1支持多種試樣壓制規格，包括Φ22mm、Φ30mm和Φ45mm，配備220V、650W的加熱器，總電源功率為1000W。其外形尺寸為380×350×420mm，凈重50kg，結構穩固，適合實驗室和工業
421
0
P-2G型金相拋光機是一款高性能的金相試樣拋光設備，專為滿足多種材料的拋光需求而設計。它采用直徑為Φ203mm的拋盤，標準轉速為1400r/min，也可根據用戶需求定制900r/min的轉速。設備支持220V、50Hz或380V、50Hz的電源選項，適應不同環境的用電需求。其外形尺寸為810×470×980mm，凈重75kg，結構穩固，運行平穩。該拋光機具有傳動平穩、噪音小、操作維修方便等優點，能夠將經過磨光的試樣拋光至光亮如鏡的表面，適用于金相試樣制備過程中的關鍵工序，是實驗室和工業現場的理想選擇。
352
0
P-1型金相拋光機是一款專為金屬材料金相分析設計的設備，適用于對經磨光后的金屬試樣進行拋光處理，可獲得光亮如鏡的金屬表面，便于在顯微鏡下觀察與測定金相組織。該拋光機的拋盤直徑為Φ200mm，轉速為1400r/min，也可根據需求定制900r/min的轉速。電源為220V、50Hz或380V、50Hz（定制），外形尺寸為450×390×280mm，凈重16kg，結構緊湊，操作簡便，適合實驗室及工業現場使用。
514
0
立式螺桿羅茨真空泵機組適用于小于等于26OL/S抽速，極限真空大于5Pa的真空獲得環境，廣泛應用于石油化工、制藥、食品、醫藥中間體、精細化工、農藥、光伏電子、環境保護等行業的各種工藝。本系列真空泵能抽出大量二氯甲烷、正己烷、環己烷、丙酮、四氫呋喃、苯、甲苯、汽油、氫氣、硅烷、氨氣等介質。
502
0
臥式螺桿真空泵真空組適用于小于等于30OL/S抽速，極限真空大于5Pa的真空獲得環境，廣泛應用于石油化工、制藥、食品、精細化工、光伏電子等行業的各種工藝。本系列真空泵能抽出空氣、二氯甲烷、正己烷、環己烷、丙酮、四氫味喃、苯、甲苯、汽油、氫氣、硅烷、氨氣等氣體介質。
478
0
專為符合半導體行業的嚴格要求而設計。該系統采用模塊化設計，且可以配置鋼絲軟軸或硬軸。配合獨特的晶體軸配置能夠達到最高的精度，因此確保了提拉速度的線性可調和可重復性。
392
0
PulsPlasma? 離子氮化設備是一款用于等離子體擴散工藝的真空爐，它可使零件表面富含氮和/或碳，從而提高耐磨損和耐腐蝕能力。PlaTeG脈沖等離子體?擴散工藝，特別是PulsPlasma?脈沖離子氮化(PPNTM)和PulsPlasma?脈沖離子氮碳共滲(PPNCTM)應用了等離子體擴散方法，相比于傳統的氮化工藝(如鹽浴軟氮化或氣體氮化)，它為客戶提供了眾多優勢，而且對環境友好，有助于節約資源。
376
0
COV型真空爐能夠在設計、有效空間尺寸、真空和工作溫度方面按客戶要求定制，此類爐型是雙層水冷式爐殼，以及配備由石墨或碳纖維復合材料(CFC)制成的加熱元件。
361
0
PVA TePla公司MOV型真空爐是電阻加熱熱處理爐，加熱元件采用鉬或鎢等難熔金屬制成。熱量是通過輻射熱從加熱器直接傳輸到待處理產品中。MOV爐可完美應用于需要高純度和無碳爐內氣氛的通用熱處理工藝，要求苛刻的材料、以及制造及實驗室應用。
377
0
YMPZ-2型自動金相試樣磨拋機是采用單片機控制的研磨拋光設備，機身采用ABS材料一體成形，外形新穎美觀，防腐蝕、經久耐用;牢固的大型支撐底盤設計確保了精密的回轉平衡度;磨盤無級調速或四檔調速，可切換旋轉方向;電機為直流無刷電機，使用壽命長且噪音低，強大的電機扭力帶來強大的動力;主軸防漏設計, 確保了幾乎不會損壞的軸承;配備冷卻水管，可調整旋轉方向進行濕磨;配備磨盤底部沖洗功能，防止磨削物累積沉淀;磨盤部分采用磁性設計，支持快速換盤，底盤和墊盤表面經特氟龍處理，無砂紙拋布黏連殘留;磨頭采用電動鎖緊裝置，具備定時功
426
0
YMP-2-300(250)型金相試樣磨拋機是采用單片機控制的研磨拋光設備，雙盤獨立控制，機身采用ABS材料一體成形，外形新穎美觀，防腐蝕、經久耐用;精密鑄鐵支撐底盤設計，確保了精密的回轉平衡度;電機為直流無刷電機，使用壽命長且噪音低，強大的電機扭力帶來強大的動力;磨盤無級調速，可切換旋轉方向，壓制鋁材質三點支撐結構，更加堅固平穩;配備磁性盤設計，支持快速換盤，底盤和墊盤表面經特氟龍處理，無砂紙拋布黏連殘留;主軸防漏設計, 確保了幾乎不會損壞的軸承;配備冷卻水管，可調整旋轉方向進行濕磨;電磁水閥控制，自動出水停水;顯示直
321
0
QG-3金相試樣切割機適用于一般金相和巖相試樣材料的切割，通過拉動主軸利用主軸重力進行對試樣的切割，轉速高，切割能力強;雙邊夾具結構，牢牢固定試樣;夾具鉗口和工作臺面等主要零部件均采用不銹鋼材料制成，使用壽命長，維護保養方便;切割室采用封閉式結構，罩蓋左側開口，可切割長條型試樣，配備安全限位開關，透明有機玻璃窗口和內置LED照明燈供切割時觀察;并配備循環冷卻系統，切割后的試樣表面光亮、平整，無燒傷，是切割試樣的理想設備。本產品分為臺式和落地式，供客戶選擇。
477
0
GKI-22熱蒸發鍍膜機是一種用于薄膜制備的高真空鍍膜設備，廣泛應用于材料科學、物理學、化學及電子器件等領域。該設備通過加熱蒸發源使材料氣化，并在基片上沉積形成薄膜，適用于金屬、有機物及無機化合物等多種材料的鍍膜。其核心部件包括高真空腔體、蒸發源、樣品臺、真空系統及膜厚監控系統，具備高真空度（極限真空度優于1×10?? Pa）和精確的膜厚控制能力。此外，設備還配備有觀察窗、旋轉樣品臺和多種蒸發源選擇，能夠滿足多樣化的實驗需求。
3876
0
ORZ材料低成本深度除油技術及裝備采用自主研發的新型ORZ吸附材料對廢水（或 料液）進行除油處理，ORZ材料具有吸附容量大（3.2g/g）、容易再生、成本低的特點, 除油效果顯著。技術原理是當含油廢水/溶液流經ORZ材料時，利用ORZ材料與油類有機物之間的范德華力和自身具備的分子篩選功能，將溶液中的大分子有機物聚集到吸附材料上，實現油和水相的分離。吸附飽和的ORZ材料通過溶劑解吸再生后返回吸附除油系統，反復循環利用，降低除油成本，且無二次污染產生。
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年08月22日 ~ 24日 
2025年08月21日 ~ 23日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
