數控穿孔機利用電火花放電蝕除原理,采用中空圓電極進行高效放電加工各種導電材料的深小孔.主要用于加工金屬線切割的穿絲孔、油嘴油泵噴油孔、化織噴絲板的噴絲孔、液壓氣動元件的油路孔、濾板、篩板的群孔、發動機中的冷卻散熱孔等各種傳統加工方法難于加工的深小孔。
DM750P專業偏光顯微鏡是一款適用于巖片、玻璃、陶瓷、塑料、高分子材料等樣品偏光特性常規觀察和分析的設備。它支持透射和透反射觀察配置,具備20mm視域的整體光路和LED光源照明。該顯微鏡配備360度旋轉的專業偏光載物臺,多種偏光專用檢偏器和豐富的偏光零部件,可進行正交偏光和錐光偏光觀察。4孔物鏡轉盤支持每個物鏡的單對中,提供偏光專用目鏡觀察筒和目鏡。此外,可配接熒光部件實現熒光觀察分析,目鏡筒具備360°旋轉功能,便于多人共覽。設備還可配接徠卡的ICC50圖像采集模塊或外置數碼相機,實現高品質圖像的采集和存儲。
廣西中隧機械設備有限公司推出的虹吸輕便式小型淘金船,是一款專為中小規模砂金礦開采及河道清淤設計的高效淘金設備。其融合虹吸原理與模塊化輕量化設計,具備操作簡單、移動靈活、淘金效率高等特點,可快速部署于偏遠水域或分散金礦點,是淘金從業者及地質勘探團隊的理想選擇。
廣西中隧機械設備有限公司推出的32通道實時成像金屬探礦儀300AX,是一款集多通道數據采集與三維成像技術于一體的高端探礦設備。其憑借高精度探測、實時成像與智能化分析功能,可快速定位地下金屬礦體并生成三維分布圖,為地質勘探與礦產開發提供科學決策依據,是現代探礦領域的革新性工具。
DM 4500P半自動智能數字式偏光顯微鏡是一款研究級設備,專為觀察分析巖石薄片、玻璃、陶瓷、塑料、高分子材料等樣品的偏光特性而設計。它具備集成式設計,固化透反射光軸,可調焦錐光勃式鏡,1.6倍自動變倍系統和復消色差光路,支持25mm視野直徑。配備6孔位手動物鏡轉盤和25mm直徑偏光專用物鏡,反射光可實現明場、偏光、干涉觀察,透射光可實現明場、暗場、偏光、干涉、錐光觀察。機身內置12V100W透反射照明電源,提供高級照明方式,并能自動記憶不同物鏡和觀察方式下的光強、光闌大小及聚光鏡組合,實現快速恢復。
廣西中隧機械設備有限公司推出的戶外小型虹吸式淘金船,是一款專為中小規模砂金礦開采及河道清淤設計的高效淘金設備。其結合虹吸原理與模塊化設計,具備操作簡便、移動靈活、淘金效率高等特點,適用于復雜地形及分散金礦點的快速作業,是淘金從業者的理想選擇。
LeicaM125、M165C、M205C和M205A是研究級立體顯微鏡,具備高變倍比和復消色差設計,提供卓越的圖像質量和分辨率。M125變倍比為12.5:1,放大倍數8-100倍;M165C為16.5:1,7.3-120倍;M205C和M205A均為20.5:1,7.8-160倍。這些顯微鏡支持連續或分級變倍,具有良好的齊焦性,內置可調雙光闌以優化景深和對比度。它們配備ESD防靜電機身,放電時間小于2秒,可配電動調焦支架和多種照明方式。此外,可連接數碼相機和攝像頭,選配研究級透射觀察載物臺,以及多種倍數的物鏡和目鏡,以滿足不同的觀察需求。
Leica Z6 APO立體顯微鏡是一款高性能的6:1變焦系統,專為高精密度檢驗和機器視覺系統一體化設計。它具備優異的對比度、色彩逼真度和完全復消色差的變焦系統及物鏡,提供從0.57X到3.6X的變焦范圍和7.1X到45X的光學放大率。其分辨能力從336LP/MM到702LP/MM,數值孔徑從0.117到0.234,活動距離可達97mm或39mm。該顯微鏡適用于各種試驗機的多樣聚焦,提供逼真的色彩偏振用于光學檢測,以及無畸變的同軸照明。它還具備電動聚焦(可選)、精細聚焦、可轉換焦距位置、內裝膜片和可變視角的復消色差ERGO管。
EM-AFM可在SEM中同時提供原子力顯微鏡成像和納米機械測量。它綜合了這兩種技術的優點,可高速獲得高分辨率的三維圖像,并且在微納米和亞納米尺度上實時觀察納米級力的相互作用,與常規SEM/FIB兼容,并與EDS, EBSD, WSD兼容。
對于工程師來說,識別介質/平面基底的納米級缺陷的任務是一個非常耗時的過程,ParkNX-HDM原子力顯微鏡系統可以自動缺陷識別,通過與各種光學儀器的聯用可以提高缺陷檢測效率,越來越多的行業需要超平的介質和基板來滿足不斷縮小的設備需求,ParkNX-HDM原子力顯微鏡系統具有業界低0.5埃噪音,并將與其真正的非接觸式模式相結合實現亞埃級表面粗糙度的測試。
無軸螺旋式污水輸送機xLS型系列無軸螺旋輸送機用于污水處理廠輸送中細格柵其柵條凈距50mm的除污機柵渣和壓濾機泥餅等物料。 環保性能好。
高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量,晶圓的表面粗糙度對于確定半導體器件的性能是至關重要的,對于先進的元件制造商,芯片制造商和晶圓供應商都要求對晶圓商超平坦表面進行更精確的粗糙度控制,通過提供低于0.5埃的業界低噪音,并將與其真正的非接觸式是模式相結合,ParkNX-Wafer能夠可靠地獲得具有小針尖變量的亞埃米級粗糙度測量,Park的串擾消除還允許非常平坦的正交XY掃描,不會有背景曲率,及時在平坦的表面上,也不需要過多考慮掃描位置,速率和大小。
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