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HT-TL-CGF是一款采用4電弧的提拉法單晶生長爐（采用Ar氣電弧對樣品熔融，提拉裝置提拉），其溫度可達3000℃。腔體為304不銹鋼腔體（帶有水冷夾層），真空度可達10-5Torr。此款單晶爐特備適合生長高熔點的單晶，如Ti單晶，YSZ，SIC和CeRh2Si等等。
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臺車升降式高效燒結爐，是同時實現脫脂、燒結和廢氣處理的一款爐型。采用臺車升降、爐體雙層設計的結構。爐膛采用四面加熱（前后左右），加熱原件分布在爐膛四周，從而實現爐內的良好均勻性。爐膛內襯采用高溫陶瓷纖維板，原料為氧化鋁多晶纖維，多層方式設計，降低熱損，提高加熱效率。
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小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀，配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選，用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧，功能出色、配置齊全，兼容超凈間，性能穩定?？捎糜谥苽涓哔|量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等，廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
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HT-1800C是一款高溫管式爐，其內膛中嵌有Zr02的內襯，加熱元件采用硅鉬棒。儀器標配中含有一套不銹鋼真空法蘭(法蘭上安裝有不銹鋼針閥和機械壓力表)和一根高純氧化鋁爐管(60mmO.Dx 1000 mmL)?？販叵到y采用PID50段程序化控溫，控溫精度可達到±1℃。
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HT-1600C是一款高真空超潔凈氣氛爐，最高加熱溫度可達1600℃-1800℃，極限真空度為10-5Torr(需配套分子泵使用)，全水冷不銹鋼爐體內采用鎢帶加熱，外層為鎢多層反射板進行隔溫，爐內為全金屬材質組成，擁有高潔凈度，低放氣量的優點，使得該爐在高溫下可獲得較高真空度，并目擁有很高的潔凈度。
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HT-2300C是一款感應加熱的臥式管式爐，最高溫度可達2300℃，可以在真空和氣氛保護下使用，可以在內部放置一根?26mm的剛玉管（最高耐溫1700℃），用于在空氣、水蒸氣或氧氣氣氛下使用。
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HTAF-1700系列箱式氣氛爐適用于高校、科研院所、工礦企業做箱式氣氛爐應用于適合各類大專院校實驗室、工礦企業化驗室，供化學分析、物理測定，以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒、烘干、熱處理用。高溫燒結、金屬退火、新材料開發、有機物質灰化、質量檢測之用，也適用于軍工、電子、醫藥、特種材料等生產和實驗。
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化學氣相沉積系統(CVD)為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)， 內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。HTTF-1200-V-PECVD多路混氣真空管式爐PECVD系統廣泛應用于沉積高質量SiO薄膜、Si3N4薄膜、金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管(CNT)等。
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本系列升降爐均系周期作業式。設計用于熔化高純度玻璃、燒結和焙燒陶瓷、磁性材料、電子元件等材料的高溫燒結。
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龍門剪切機是一種適用于重型廢鋼剪切加工的設備，我公司生產的龍門剪噸位在200-1800噸常規機型剪切料口寬度在600-2000mm適用于對輕薄鋼料、鋼筋、鋼板、鎳板、鋼板、圓鋼、鋼管、廢銅、廢鋼、廢鐵、輕金屬結構件、不銹鋼、金屬壓塊、汽車車體、鋁合金、銅材、鐵屑、鋼絲、汽車、金屬壓塊等廢鋼破碎設備無法處理的重廢及纏繞性物料的破碎加工，該系列設備由于采用全新電液控制系統、加強型油缸其工作效率按照型號可達到3-6次/min。
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大型龍門剪切機是用于重負荷的傳統機器，帶有“搖擺蓋”和超行程的原始壓縮蓋。采用了新的尾部設計，以更好地支持主推筒，更強大的柴油發動機或雙電機。具有更大的剪切開口，剪切機不需要地基配備支撐結構，在該支撐結構中運行液壓系統的管道。該結構還支撐掩體以保護圓柱體。這些機器的框架有兩個連接件，一個支撐箱和剪切頭，另一個用于電機，油箱和液壓系統。壓縮系統由一個箱體限定，箱體縱向和側面與底座鉸接在兩個擺動蓋上。主缸(根據要求)可以配備縱向蓋以在整個過程中保護缸。
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年09月04日 ~ 06日 
2025年08月22日 ~ 24日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
