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1100度箱式灰化爐以高溫含鉬電阻絲為加熱元件，采用四面加熱的方式，保證了爐膛的加熱均勻性，保溫材料采用高溫纖維模塊，保溫性好，爐膛頂部有排氣孔，保證生產過程中廢氣的排出，爐膛內部帶有310s不銹鋼材料制成的5層爐架。采用程序控溫，可以設置多段程序。
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KJ-M600高溫馬弗爐采用鋁合金作為加熱元件。爐內最高溫度可達600℃。爐膛溫度曲線可由30個分段設置，并由518P型溫度控制器自動運行，可編制各種升溫、恒溫、降溫程序，控溫精度高。該爐沒有爐門，是專門為小部件熱處理而設計的高溫馬弗爐。
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HT1100多工位管式爐是一款緊湊型管式爐，可用于實驗室、科研和生產企業. 內置精密溫度控制器，該爐可在水平、垂直或傾斜等多個工位下工作，以滿足各種需求，操作簡單快捷，實用性高。
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1200℃多功能三溫區滑軌電動區熔爐是將分體式三溫區管式爐、手動滑軌爐和電動區熔爐，集合在一個系統中實現，通過調整左、中、右三個溫區的位置，可以實現每個溫區之間大梯度的溫度差值。手動滑軌爐模塊可以實現對樣品的快速加熱和快速冷卻功能，右側的電動區熔模塊，通過控制加熱模塊的移動速度，實現對樣品的區熔或提純功能。
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HT-TL-CGF是一款采用4電弧的提拉法單晶生長爐（采用Ar氣電弧對樣品熔融，提拉裝置提拉），其溫度可達3000℃。腔體為304不銹鋼腔體（帶有水冷夾層），真空度可達10-5Torr。此款單晶爐特備適合生長高熔點的單晶，如Ti單晶，YSZ，SIC和CeRh2Si等等。
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臺車升降式高效燒結爐，是同時實現脫脂、燒結和廢氣處理的一款爐型。采用臺車升降、爐體雙層設計的結構。爐膛采用四面加熱（前后左右），加熱原件分布在爐膛四周，從而實現爐內的良好均勻性。爐膛內襯采用高溫陶瓷纖維板，原料為氧化鋁多晶纖維，多層方式設計，降低熱損，提高加熱效率。
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小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀，配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選，用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧，功能出色、配置齊全，兼容超凈間，性能穩定?？捎糜谥苽涓哔|量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等，廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
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HT-1800C是一款高溫管式爐，其內膛中嵌有Zr02的內襯，加熱元件采用硅鉬棒。儀器標配中含有一套不銹鋼真空法蘭(法蘭上安裝有不銹鋼針閥和機械壓力表)和一根高純氧化鋁爐管(60mmO.Dx 1000 mmL)?？販叵到y采用PID50段程序化控溫，控溫精度可達到±1℃。
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HT-1600C是一款高真空超潔凈氣氛爐，最高加熱溫度可達1600℃-1800℃，極限真空度為10-5Torr(需配套分子泵使用)，全水冷不銹鋼爐體內采用鎢帶加熱，外層為鎢多層反射板進行隔溫，爐內為全金屬材質組成，擁有高潔凈度，低放氣量的優點，使得該爐在高溫下可獲得較高真空度，并目擁有很高的潔凈度。
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HT-2300C是一款感應加熱的臥式管式爐，最高溫度可達2300℃，可以在真空和氣氛保護下使用，可以在內部放置一根?26mm的剛玉管（最高耐溫1700℃），用于在空氣、水蒸氣或氧氣氣氛下使用。
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HTAF-1700系列箱式氣氛爐適用于高校、科研院所、工礦企業做箱式氣氛爐應用于適合各類大專院校實驗室、工礦企業化驗室，供化學分析、物理測定，以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒、烘干、熱處理用。高溫燒結、金屬退火、新材料開發、有機物質灰化、質量檢測之用，也適用于軍工、電子、醫藥、特種材料等生產和實驗。
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年08月22日 ~ 24日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
2025年08月10日 ~ 12日 
