主要功能
1. 缺陷檢測與分類(lèi)
2. 缺陷分析
3. 薄膜厚度測量
4. 表面粗糙度測量
5. 薄膜應力檢測
技術(shù)特點(diǎn)
1. 單次掃描中結合四種光學(xué)檢測方法的單機解決方案,可實(shí)現高效的自動(dòng)化缺陷檢測與分離;
2. 對LED材料的缺陷進(jìn)行自動(dòng)檢測,從而增強襯底的質(zhì)量管控,迅速確定造成缺陷的根本原因并改進(jìn)MOCVD品質(zhì)管控能力;
3. 滿(mǎn)足多種工業(yè)要求,包括高亮度發(fā)光二較為管(HBLED),高功率射頻電子器件,透明玻璃基板等技術(shù);
4. 在多個(gè)半導體材料系統中能更靈敏的檢測影響產(chǎn)品良率的缺陷。
5. 自動(dòng)缺陷分類(lèi)功能(Auto Defect Classification)
(Particle, Scratch, Pit, Bump, and Stain Detection)
6. 自動(dòng)生成缺陷mapping。
技術(shù)能力
1. 檢測缺陷尺寸>0.3μm;
2. 大樣品尺寸:8 inch Wafer;
3. 超過(guò)30種DOI的缺陷分類(lèi)。
應用案例1. 透明/非透明材質(zhì)表面缺陷檢測
2. MOCVD外延生長(cháng)成膜缺陷管控
3. PR膜厚均一性評價(jià)
4. Clean制程清洗效果評價(jià)
5. Wafer在CMP后表面缺陷分析