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可用于功率場空間分布精細控制的基臺及控制方法

881   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:45:47
本發明涉及一種可用于功率場空間分布精細控制的基臺及控制方法，屬于化學氣相沉積技術領域。在基臺金屬基底上設置若干個絕緣層，絕緣層將基臺金屬基底分成不同直徑的環形或扇形區域；在基臺金屬基底內部、各絕緣層分隔的環形或扇形區域內，分別設置若干個可調電阻電容和阻抗檢測單元；可調電阻電容用于對功率場空間分布進行調節，阻抗檢測單元用于對該區域功率空間分布進行檢測；控制模塊能夠對功率空間分布進行精準控制，使其逼近預期功率空間分布要求。通過絕緣層，減小相鄰區域間的導電性，使得不同區域間的控制更加獨立。進而通過在不同區域設置獨立可控的功率調節裝置，實現對功率場空間分布具有靈活和精細化的調控能力。
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“可用于功率場空間分布精細控制的基臺及控制方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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