本發明涉及一種基于鈮酸鋰的PM-QPSK集成光調制器及其工作方法。所述集成光調制器,包括上電極、下電極、襯底和鈮酸鋰晶體;鈮酸鋰晶體上按光路方向依次刻有偏振解復用器、兩路并聯的IQ調制器和偏振復用器;上電極和下電極分別設置在鈮酸鋰晶體上表面和襯底下面;所述偏振解復用器和偏振復用器分別為基于MZI的鈮酸鋰偏振解復用器和基于MZI的鈮酸鋰偏振復用器。本發明所述集成光調制器,基于鈮酸鋰的雙折射效應制成鈮酸鋰偏振解復用器和偏振復用器,改變以往基于硅基制作偏振復用器的傳統,將基于硅基的偏振解復用器和偏振復用器與IQ調制器集成于同一塊晶體上;工藝容差遠小于硅基工藝。
聲明:
“基于鈮酸鋰的PM-QPSK集成光調制器及其工作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)