一種基于光致變色材料的超分辨加工技術 轉載于漢斯學術交流平臺，如有侵權，請聯系我們一種基于光致變色材料的超分辨加工技術 內容總結：近些年來，納米級設備的應用被廣泛的報道，例如：負性反射率的人造超材料 [1] ，光子結構控制光流 [2] (即光子晶體，波導)，以及大容量的光學數據存儲設備 [3] 。微小的納米結構可以通過電子束光刻來實現。利用光學顯微鏡在光敏材料上進行加工相較而言比較便宜而且方便。但是，由于光的衍射特性，能夠被加工的最小尺寸，通常限制在所用光的波長的一半。幾種有效的方法被提了出來以提高光學光刻加工的分辨率。Min Gu等利用徑向偏振光束采用雙光子吸收機制制作了一種高容量的磁盤(高達3 TB) [4] 。Scott等人利用光敏材料的光引發以及光抑制特性制作了一種次衍射結構(100 nm) [5] 。類似于STED顯微鏡，在這種方法中，寫入光束被緊緊地聚焦在光敏材料上，隨后引入第二光束來抑制抗蝕劑的聚合，這道光束在聚焦區域具有環狀分布的。由于受到抑制，位于環狀中心的光敏材料得以聚合。Min Gu等利用高感光性的樹脂的快速固化特性進一步改進了這一方法 [6] 。內容：1. 背景介紹近些年來，納米級設備的應用被廣泛的報道，例如：負性反射率的人造超材料 [1] ，光子結構控制光流 [2] (即光子晶體，波導)，以及大容量的光學數據存儲設備 [3] 微小的納米結構可以通過電子束光刻來實現然而，其實驗過程相當復雜，而且實驗設備非常昂貴利用光學顯微鏡在光敏材料上進行加工相較而言比較便宜而且方便但是，由于光的衍射特性，能夠被加工的最小尺寸，通常限制在所用光的波長的一半幾種有效的方法被提了出來以提高光學光刻加工的分辨率Min Gu等利用徑向偏振光束采用雙光子吸收機制制作了一種高容量的磁盤(高達3 TB) [4] Scott等人利用光敏材料的光引發以及光抑制特性制作了一種次衍射結構(100 nm) [5] 類似于STED顯微鏡，在這種方法中，寫入光束被緊緊地聚焦在光敏材料上，隨后引入第二光束來抑制抗蝕劑的聚合，這道光束在聚焦區域具有環狀分布的由于受到抑制，位于環狀中心的光敏材料得以聚合Min Gu等利用高感光性的樹脂的快速固化特性進一步改進了這一方法 [6] 此外，吸光度調制光學光刻(AMOL) [7] [8] [9] 也是一個有效的光學制造方法這種方法是基于光致變色材料
聲明：
“一種基于光致變色材料的超分辨加工技術” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：李青格樂*, 呂 肅
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2025年07月23日 ~ 26日 
