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該真空管式爐日常工作溫度是1000度，爐膛采用氧化鋁纖維襯里，智能控溫，操作簡單，智能化程度高。主要應用于晶體退火、電子照明、二維材料燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、CVD實驗、物質成分測定等領域。
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1100℃真空管式爐引進國外的技術，自主研發生產的、節能、新型電爐。外觀美觀大方，采用冷軋鋼板，數控機床和高精密的激光切割機、數控折彎機加工成，表面采用雙色氧化粉末進行靜電噴塑處理，經久耐用、不掉色、耐高溫、耐腐蝕。該管式實驗爐主要用于制備稀土、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等工業真空燒結、保護氣氛燒結、真空沉積、CVD實驗、材料成分測定等場合。
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自動進出料旋轉管式爐適用于短時間加熱的物料處理。首先將設備開始加熱達到目標溫度，然后將爐體調整一定傾斜角度，開啟進料鉸刀將物料連續送入爐管，物料穿過工作管的加熱區，從另一端進入到儲料罐內。熱處理時間的長短取決于爐管的傾斜度、旋轉速度、爐管長度以及物料的流動性。
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該旋轉管式爐是一種具有特殊旋轉和傾斜功能的高溫反應器。 專為無機化合物的燒結而設計，如礦物顆粒和電池材料，具有更好的均勻性。 多加熱區、冷凝器和尾氣收集裝置可根據不同實驗選配。
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這款五溫區智能控溫管式爐可擁有2-5個加熱區，每個溫區可單獨控溫，具有安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，爐膛溫度均勻性高等優點?？赏夥粘檎婵?，廣泛應用于高等院校，科研院所，工礦企業做高溫燒結金屬材料處理實驗、質量檢測和小批量生產等。本款多溫區管式爐主要適用于在真空或保護氣氛中，多種溫度段下材料的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(CVD)工藝，碳納米管及硅納米線的制備等。
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KJ-T1000-F是一個三溫區可傾斜的旋轉管式爐，三個溫度控制器可以獨立控制溫度，并可以設置30個溫度上升和下降程序。溫度區1(加熱區的中心)由硅鉬棒加熱，其余兩個溫度區由硅碳棒加熱。該管式爐可以形成溫度梯度，調節三個溫度區域的溫度，并在熱梯度下制備功能材料，同時也使用于CVD法制作薄膜外延生長之用。
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KJ-T1600活性炭管式爐是由管式爐+蒸汽發生器組成，其中管式爐部分的工作溫度可達1500℃，工作過程中通過蒸汽發生器生成蒸汽，將蒸汽通入放入材料的管式爐中進行加熱，以果殼等為材料，生成活性炭。該高溫管式爐適用于粉料、顆粒的動態燒結，使物料受熱更均勻、燒結時間縮短、能耗降低、品質高。帶蒸汽發生器管式爐主要用于實驗室和企業對制備活性炭進行物料樣本分析或者大量制備，可根據產量或者生產條件進行設備定制。
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KJ-T89-3旋轉管式爐采用鉬電阻絲作為加熱元件。爐內最高溫度可達900℃。此款回轉爐溫度曲線可設置為16條工藝曲線，30段可編程，并由高級溫度控制器自動運行。它是多加熱區設計，用于樣品均勻加熱，用戶還可以設置溫度梯度。不銹鋼管內的螺旋進料器，連接到電機軸，磁流體密封，螺旋進料器隨電機工作而旋轉，樣品前進，因此可以連續處理樣品。同時轉速可調，從0.05至2RPM，用戶可以調整樣品在熱區的停留時間。它非常適合材料研究、陶瓷研究實驗室開發各種新材料。
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本產品是一種超聲波噴霧熱解爐，也叫做三溫區超聲噴霧熱解管式爐，該設備由超聲霧化裝置、1200℃三溫區管式爐、供氣系統、真空系統和高壓靜電收集裝置組成。材料制備通過前驅體霧化、加熱和納米顆粒收集這三個步驟，來用于合成納米核殼結構的多功能性。此款高溫熱解爐是一款非常優良的合成系統。針對于合成各種納米結構氧化物以及納米材料的復合包覆工藝。
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1600度小型立式高溫管式爐是科佳電爐專為針對粉末表面沉積的CVD實驗開發而成的，采用高純氧化鋁纖維精制爐膛，該立式管式爐爐操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、爐膛溫度均勻性高、可通氣氛抽真空等特點。立式管式爐主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
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科佳KJ-T1200-V60是一款流化床立式管式爐，專門針對粉末表面沉積的CVD實驗，爐管為高純石英異形管，爐管內部配置一嵌有一多孔石英板的石英舟，石英板的孔徑可單獨定制。粉末可放在多孔石英板上，氣體可從爐管下端通入，通過多孔石英板使樣品顆粒懸浮在加熱區域，進行沉積實驗。注意：在通入氣體懸浮起樣品顆粒時，也許會因為氣體流量過大會使顆粒穿過加熱區，所以實驗時要根據顆粒的大小尺寸來調節氣體流量。
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該立式管式爐采用爐管垂直放置、爐膛加熱絲環形分布的結構設計，可應用于小型鋼件的退火、回火熱處理，以及立式CVD鍍膜等。設備可在氣氛狀態、真空狀態下運行，也可作為普通管式爐使用，適用于高校實驗室及科研院所等單位。
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1600℃高溫立式管式爐廣泛應用于各種反應溫度在1600℃左右的CVD實驗;還可用于真空燒結、氣氛保護真空燒結、電池材料、納米相關材料的制備等。
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這款定制款微型立式管式爐的爐體和爐管直立，反應物料可以順暢地通過反應區。本系列設備的控制系統簡單易操作，具有溫場均衡、安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，升降溫度速率快、節能等優點。該1100℃立管爐主要用于制備稀土、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等工業真空燒結、保護氣氛燒結、真空沉積、CVD實驗、材料成分測定等場合。
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KJ-TL1200-S25LK5是一款流化床立式管式爐，專門針對粉末表面沉積的CVD實驗，爐管為高純石英管，爐管內部帶有砂芯版，砂芯的孔徑為50微米.粉末可放在多孔石英板上，氣體可從爐管下端通入，通過多孔石英板使樣品顆粒懸浮在加熱區域，進行沉積實驗。預留有進、出氣口，真空泵接口，可搭配真空泵使用。(注意：在通入氣體懸浮起樣品顆粒時，也許會因為氣體流量過大會使顆粒穿過加熱區，所以實驗時要根據顆粒的大小尺寸來調節氣體流量。)
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該立式流化床管式爐配有進出料倉，可實現連續進出料作業，大大提高了熱處理效率。該流化床采用爐管垂直放置、爐膛加熱絲環形分布的結構設計，可應用于小型鋼件的退火、回火熱處理，以及立式CVD鍍膜等。設備可在氣氛狀態、真空狀態下運行，也可作為普通管式爐使用，適用于高校實驗室及科研院所等單位。
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該高溫立式管式爐主要由物料預熱爐、反應爐、氣體預熱爐、控制柜、供氣系統、進料裝置、收料裝置組成。爐膛采用輕質陶瓷纖維精制爐膛，左右滑動開啟方便，可在多種惰性氣氛條件下進行燒結;加熱元件采用優質合金加熱絲，加熱速率快，耐高溫、抗氧化、耐腐蝕、升溫快;智能PID30段控溫，控溫精度高。
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年09月04日 ~ 06日 
2025年08月22日 ~ 24日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
